镀膜材料：金属膜料、氧化物、氟化物、硫化物、钛酸物、混合物等各种膜材、镀膜蒸发料；PVD涂层、TiN涂层、TiC涂层、TiCN涂层、ZrN涂层、CrN涂层、MoS2涂层、TiAlN涂层、TiAlCN涂层、TiN-AlN涂层、CNx涂层、DLC涂层、ta－C涂层等多元复合涂层；靶材：溅射靶材、金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、合金靶材、单晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、贵金属靶材、稀有金属靶材（钛、铌、锆、镍、钽、钨、钼、铪、铬、银等），单一金属靶材、蒸发材料、特种靶材等各类靶材；
低温超导薄膜：低熔点超导薄膜：低熔点超导薄膜，合金薄膜；高熔点超导薄膜：难熔金属，合金薄膜；化合物超导薄膜： NbN和Nb3Sn、Nb3Ge薄膜；
高温超导薄膜：钇系薄膜、铋系薄膜和铊系薄膜；
功能薄膜：光学薄膜，背光/显示用膜，显示屏用膜，产业用薄膜，光伏薄膜；
镀膜设备：真空镀膜机、真空蒸镀设备、光学镀膜机、溅射镀膜机、眼镜镀膜机、光纤镀膜、CVD设备、MOCVD设备、薄膜沉积设备、玻璃镀膜设备、磁控镀膜、蒸镀设备、离子束沉积设备、电子枪、离子源；蒸发沉积掩膜、晶振片、镀膜夹具、配件、仪器、镀膜测试与监控设备、膜厚监测仪、镀膜牢固度测试器等；
镀膜材料生产加工设备：冷等静压机，热等静压机，磁控溅射热蒸发，铜带铜铟硫技术与设备，高温钎焊炉，烧结炉，中频感应炉，电子束区熔炉，电子束熔炼炉，大面靶材钎焊炉，高温真空热压炉，轧机等；
超导器件：超导隧道器件，超导量子干涉器件，
薄膜成型机械、检测检验仪器、特殊装置、薄膜原料及化工产品；
洁净工程：洁净、防护系统，屏蔽防护产品、屏蔽机房设备、屏蔽桌/台/柜，安全防护服、洁净室耗材、防静电产品等；
相关出版物及网络。
晶体生长设备及仪器：
软轴提拉单晶炉，软轴单晶炉，区熔单晶炉，直拉硅单晶炉；高压单晶炉，三段式加热型晶炉，三段式加热带磁场型高压单晶炉，中压单晶炉；激光晶体炉，氧化物晶体炉，化合物晶体炉，化合物生长设备，氧化物生长设备，铌酸锂钽酸锂晶体炉，钒酸钇晶体炉, TDL－FZ50 型区域熔化提纯炉；六面顶压机，压机精密数控装置及合成技术，金刚石膜生产设备及沉积技术，高纯度触媒粉雾化设备及工艺技术；超硬材料料有序排列布料、高效精密激光焊接、高效精密成型等；六角切割机，水溶晶体切割设备，研磨抛光机；晶体检验、测试、分析仪器；
人工晶体：
超硬晶体：金刚石单晶和立方氮化硼晶体；半导体晶体：无机半导体晶体、有机半导体材料和非晶态半导体；光功能晶体：光学晶体、电光晶体、声光晶体、磁光晶体、激光晶体、非线性晶体、光折变晶体和闪烁晶体等；压电晶体：英晶体、铌酸锂晶体、硅酸镓镧及其同系物晶体；热释电晶体：硫酸甘氨酸(TGS，包括与其同型的晶体)晶体、铌酸锶钡(SBN)晶体、硫酸锂(LSH)和钽酸锂(LiTaO3)晶体等；激光晶体，非线性光学晶体，双折射晶体，绝缘晶体，闪烁晶体，光子晶体，块状晶体，薄膜晶体，纤维晶体，纳米晶体，液晶和准晶，人工宝石等；
晶体原辅材料：氟化钡，氟化鎂，氟化钙，氟化铅，氟化锂，氟化铈，砷化稼，碳化硅，单晶硅，多晶硅锭，单晶鍺，氧化锆纤维，氧化铝,铌酸锂；
相关出版物及网络。
